Substrate Conformal Imprint Lithography als innovatives Verfahren zur Herstellung von Nanospektrometern im sichtbaren Spektralbereich

2012-07-162012-07-162012-07-16urn:nbn:de:hebis:34-2012071641475http://hdl.handle.net/123456789/2012071641475gerUrheberrechtlich geschützthttps://rightsstatements.org/page/InC/1.0/Nanoimprintoptische SensorenFabry-Pérot FilterSpektrometer620Substrate Conformal Imprint Lithography als innovatives Verfahren zur Herstellung von Nanospektrometern im sichtbaren SpektralbereichDissertation42.70.-a42.70.JkNanoprägenNanotechnologieSpektroskopie