2023-08-022023-08-022023-02-27http://hdl.handle.net/123456789/14966engNamensnennung 4.0 Internationalhttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0/electrical properties and parameterselectronic devicesmetallization processcrackselectrical resistivityelectrical conductorscanning electron microscopyfatigue testingthin filmselectron backscatter diffraction620660Describing mechanical damage evolution through in situ electrical resistance measurementsAufsatzElektrische EigenschaftElektronisches GerätMetallisierenRissElektrischer LeiterRasterelektronenmikroskopieMaterialermüdungDünne SchichtElektronenrückstreubeugung