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dc.date.accessioned2016-06-28T13:55:21Z
dc.date.available2016-06-28T13:55:21Z
dc.date.issued2016-06-28
dc.identifier.uriurn:nbn:de:hebis:34-2016062850505
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/2016062850505
dc.description.sponsorshipMinistry of Education and Training (VietNam)eng
dc.language.isoeng
dc.rightsUrheberrechtlich geschützt
dc.rights.urihttps://rightsstatements.org/page/InC/1.0/
dc.subjectNIR spektrometereng
dc.subjectnear infraredeng
dc.subject3D-nanoimprinteng
dc.subjectNanospektrometerger
dc.subjectFabry-Pérot-Filterger
dc.subjectMiniaturisierungger
dc.subjectspectrometereng
dc.subjectminiaturizationeng
dc.subjectnanospectrometereng
dc.subject.ddc620
dc.title3D nanoimprint technology for NIR Fabry-Pérot filter arrayseng
dc.typeDissertation
dcterms.abstractIm Rahmen dieser Arbeit wird die Herstellung von miniaturisierten NIR-Spektrometern auf Basis von Fabry-Pérot (FP) Filter Arrays behandelt. Bisher ist die kostengünstige Strukturierung von homogenen und vertikal erweiterten Kavitäten für NIR FP-Filter mittels Nanoimprint Technologie noch nicht verfügbar, weil die Qualität der Schichten des Prägematerials unzureichend ist und die geringe Mobilität der Prägematerialien nicht ausreicht, um die vertikal erweiterten Kavitäten zu füllen. Diese Arbeit konzentriert sich auf die Reduzierung des technischen Aufwands zur Herstellung von homogenen und vertikal erweiterten Kavitäten. Zur Strukturierung der Kavitäten wird ein großflächiger substratkonformer UV-Nanoimprint Prozess (SCIL - Substrate Conformal Imprint Lithoghaphy) verwendet, der auf einem Hybridstempel basiert und Vorteile von harten und weichen Stempeln vereint. Um die genannten Limitierungen zu beseitigen, werden alternative Designs der Kavitäten untersucht und ein neues Prägematerial eingesetzt. Drei Designlösungen zur Herstellung von homogenen und erweiterten Kavitäten werden untersucht und verglichen: (i) Das Aufbringen des Prägematerials mittel mehrfacher Rotationsbeschichtung, um eine höhere Schichtdicke des Prägematerials vor dem Prägeprozess zu erzeugen, (ii) die Verwendung einer hybriden Kavität bestehend aus einer strukturierten Schicht des Prägematerials eingebettet zwischen zwei Siliziumoxidschichten, um die Schichtdicke der organischen Kavität zu erweitern und (iii) die Optimierung des Prägeprozesses durch Verwendung eines neuen Prägematerials. Die mit diesen drei Ansätzen hergestellten FP-Filter Arrays zeigen, hohe Transmissionen (beste Transmission > 90%) und kleine Linienbreiten (Halbwertsbreiten <5 nm).ger
dcterms.abstractThe fabrication of miniaturized NIR spectrometers based on arrays of multiple Fabry-Pérot (FP) filter are reported within this thesis work. Today, the low-cost patterning of homogeneous extended cavity heights for NIR filters using the conventional spin –coated nanoimprint methodology is not available because of insufficient coating layers and low mobility of the resist materials to fill extended cavity structures. This work will focus on the reducing of the technological effort for fabrication of homogeneous extended cavities. Alternative cavity designs are studied, including a new resist and large-area 3D nanoimprint based on a hybrid mold and apply UV Substrate Conformal Imprint Lithography (UV-SCIL) to overcome these limitations. Three different solutions for structuring homogeneous extended cavity heights are presented and compared, i.e. (i) applying the multiple spin coating of the resist to obtain thicker initial resist layer, (ii) introducing a hybrid cavity (combination of thin oxide layer and the organic cavity) to compensate the height differences, and (iii) optimizing the imprint process with a novel resist material. The imprint results based on these methods demonstrate the implementation of NIR FP filters with high transmission intensity (best single transmission >90%) and small line widths (<5 nm in full width at half maximum).eng
dcterms.accessRightsopen access
dcterms.alternativeFabrication, characterization and comparison of different cavity desginseng
dcterms.creatorNguyen, Duc Toan
dc.contributor.corporatenameKassel, Universität Kassel, Fachbereich Elektrotechnik / Informatik
dc.contributor.refereeHillmer, Hartmut (Prof. Dr.)
dc.contributor.refereeLehmann, Peter (Prof. Dr.)
dc.subject.swdFabry-Pérot-Resonatorger
dc.subject.swdNIR-Spektroskopieger
dc.subject.swd3D-Druckger
dc.subject.swdNanoprägenger
dc.subject.swdSpektrometerger
dc.date.examination2016-06-17


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